So, very similar to before, we apply a photoresist, use a photomask, dissolve the exposed resist, and use a chemical to remove any exposed metal.

因此，与之前非常相似， 我们应用光刻胶， 使用光掩模， 溶解暴露的抗蚀剂，并使用化学物质去除任何暴露的金属。